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【重慶水處理設備網http://xqccscq.com/】隨著我國經濟的高速發展，半導體行業的發展也在迅速崛起，因此在半導體工業加工的過程中不可避免的會發生含有氟離子，銅離子，磷廢水的污染物廢水，下面就來列舉一些半導體工業廢水的處置方法都有哪些?

半導體工業的污水應該怎么處置？

方法/方法

含氟離子廢水處置：

將廢水的pH值調整在6-7左右，再加入的過量的CaCl2和適量的絮凝劑，后續會行形成沉淀，局部污泥循環成為載體，沉淀池中通過重力沉降能夠實現泥水分離。

第一次反應時能夠去除80%氟，純水設備再一次加入絮凝劑，氟化鈣及其其他形態沉淀，利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運，這時候發生的壓濾液進入其他系統進一步處置。

含磷離子廢水處置：

含磷廢水中磷主要以PO43-為主，采用的方法為化學沉淀法和混凝劑沉降法的組合工藝，通過加入CaCl2生成難溶于水的Ca5PO43OH沉淀。 重慶GMP純化水設備

一級反應池的pH調整到5-6左右，二級反應池pH調整到8.5-9三級反應池pH調整到9-9.5確保完全生成羥基磷酸鈣)純水設備此工藝流程比擬簡單，費用也比較低，對于含磷廢水處置有很大的適用性。

與研磨廢水進行混合：

將半導體器件制造中產生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合，混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾，過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾，經過納濾膜過濾裝置過濾的水即可直接回用。

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